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 オンカジ 遊雅堂 BiFeO等铁电氧化物的外延生长;讨论了这类材料的梯度结构、
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材料科学与工程オンカジ 遊雅堂举办第二期“琼州英材”前沿学术论坛
2024年05月27日 08:19  点击:

2024年5月21日,材料科学与工程オンカジ 遊雅堂在研发楼210举办第二期“琼州英材”前沿学术论坛。本次论坛邀请了浙江大学任召辉教授和中国科オンカジ 遊雅堂空天信息创新研究院陈龙永研究员,分别围绕铁电氧化物材料和微波成像材料与技术做学术报告。论坛活动由廖双泉院长主持,オンカジ 遊雅堂30余名师生参加。

在论坛报告中,任召辉教授聚焦钙钛矿铁电氧化物单晶薄膜材料与器件,分享自己的最新研究成果与学术见解,提出通过衬底电子掺杂浓度调节铁电氧化物/衬底界面处的极化屏蔽,降低界面能,驱动水热外延生长;阐明单晶衬底不同电子掺杂浓度界面极化屏蔽与界面能的影响,揭示界面极化屏蔽对铁电氧化物形核-生长模式的关键调节机制,实现了PbTiO3、Pb(Zr,Ti)O3、BiFeO等铁电氧化物的外延生长;讨论了这类材料的梯度结构、光电性能,探索其光电成像等方面的可能应用。陈龙永研究员从光学器件、半导体材料、功率器件、光电材料、MESM器件等方面介绍了微波成像技术发展过程与未来发展趋势,阐述了微波成像技术对新材料的需求,为研究人员开展相关研究提供了新思路。

“琼州英材”前沿学术论坛的举办,为オンカジ 遊雅堂师生们提供了一个高水平学术交流平台。未来,论坛将继续为オンカジ 遊雅堂师生提供更多的交流机会和平台,为推动オンカジ 遊雅堂学术进步和科技创新能力提升作出贡献。


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廖双泉院长致欢迎辞


廖双泉院长为任召辉教授颁发证书


廖双泉院长为陈龙永研究员颁发证书



报告人简介:

任召辉教授:

浙江大学材料科学与工程オンカジ 遊雅堂教授,博士生导师。前主要从事压电、铁电氧化物单晶材料的溶液生长及光电探测研究。以第一作者或通讯作者在Nat. Commun., Adv. Mater., Sci. Bull.等国际重要学术期刊发表论文80余篇,授权发明专利40余项,承担浙江省杰出青年基金、国家自然科学基金面上项目、国家自然科学基金重点项目课题、国家重点研发计划研究课题等。

陈龙永研究员:

博士生导师,中国科オンカジ 遊雅堂空天信息创新研究院微波成像技术国家重点实验室副主任,国家重点研发计划项目首席科学家,国家重点项目负责人。2003年毕业于中国科学技术大学,2009年毕业于中国科オンカジ 遊雅堂研究生院。获国家技术发明二等奖1项(2018年),中国电子测量学会技术发明一等奖1项(2021年),发表学术论文50余篇,其中SCI检索30篇,授权发明专利10项。



文/ 图:谢乐琼  审核:胡先文


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